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    加氫除氧氮氣純化裝置

    產品參數/ Product parameter

    O2 + H2 ----- HO2

    利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應生成水的原理,在氮氣中加入氫氣,混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應,去除氧雜質,再經過冷卻、吸附兩級干燥除水,得到高純氮氣。


    ● 純氣含過量氫,適合需還原性氣氛的應用,氫含量可調。

    ● 原理簡單,結構合理,能耗低

    ● 氣體指標溫度,雜質含量低

    ● 可選配自動系統,實現無人值守

    ● 應用范圍廣,對原料氣無特殊要求


    普通氮氣:

    ● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
    ● 常壓露點—— 無要求
    ● 氧含量——≤3%
    ● 處理氣量——10~5000Nm3/hr


    高純氮氣:
    ● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調)
    ● 常壓露點——≤-70℃
    ● 氧含量——≤3ppm
    ● 氫含量—— 500~2000ppm
    ● 氮氣量——10~5000Nm3/hr

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